Войти
a) показан простой эксперимент с использованием маски апертуры в повторно отображенной плоскости апертуры. б) и в) показаны схемы апертурных масок, которые были помещены перед вторичным зеркалом телескопа Кек и соавторами. Сплошные черные фигуры представляют субапертуры (отверстия в маске). Наложена проекция расположения сегментов главного зеркала Keck. Апертурная маскирующая интерферометрия представляет собой форму спекл-интерферометрии, которая позволяет ограничить дифракцию изображения, полученные с наземных телескопов, и это запланированный режим высококонтрастного изображения на космическом телескопе Джеймса Уэбба. Этот метод позволяет наземным телескопам достигать максимально возможного разрешения, позволяя наземным телескопам большого диаметра обеспечивать гораздо большее разрешение, чем космический телескоп Хаббла. Основным ограничением метода является то, что он применим только к относительно ярким астрономическим объектам. На телескоп помещается маска, пропускающая свет только через небольшое количество отверстий. Этот массив отверстий действует как миниатюрный астрономический интерферометр. Метод был разработан Джоном Э. Болдуином и его сотрудниками из Кавендишской астрофизической группы.
В методе маскирования апертуры метод биспектрального анализа (маскирование спеклов) обычно применяется к данным изображения, снятым через замаскированные апертуры, где больше всего апертуры блокируется, и свет может проходить только через серию небольших отверстий (субапертур). Маска апертуры удаляет атмосферный шум из этих измерений за счет использования величин замыкания, позволяя измерять биспектр быстрее, чем для немаскированной апертуры.
Для простоты апертурные маски обычно либо помещаются перед вторичным зеркалом (например, Tuthill et al. (2000)), либо помещаются в повторно отображенную плоскость апертуры, как показано на рисунке. 1.a) (например, Haniff et al. (1987); Young et al. (2000); Baldwin et al. (1986)). Маски обычно классифицируются как неизбыточные или частично избыточные. Неизбыточные маски состоят из массивов небольших отверстий, в которых нет двух пар отверстий с одинаковым вектором разделения (один и тот же базовый уровень - см. синтез апертуры ).
Каждая пара отверстий обеспечивает набор полос с уникальной пространственной частотой в плоскости изображения. Частично избыточные маски обычно предназначены для обеспечения компромисса между минимизацией избыточности интервалов и максимальным увеличением пропускной способности и диапазона исследуемых пространственных частот (Haniff Buscher, 1992; Haniff et al., 1989). На рисунках 1.b) и 1.c) показаны примеры апертурных масок, использованных Питером Тутхиллом и его сотрудниками перед вторичной обмоткой телескопа Кек; Рисунок 1.b) - это маска без резервирования, а на рисунке 1.c) - частично.
Хотя отношение сигнал-шум при наблюдениях с маскировкой спеклов при высоком уровне освещенности можно улучшить с помощью апертурных масок, малейшая предельная величина не может быть значительно улучшена для детекторов с ограничением фотонного шума (см. Бушер и Ханифф (1993)).
