Войти
| Тип | Naamloze Vennootschap |
|---|---|
| Торгуется как | |
| Промышленность | Полупроводниковая промышленность |
| Основана | 1984 г.; 36 лет назад (1984) |
| Главный офис | Велдховен, Нидерланды |
| Ключевые люди | Питер Веннинк (Генеральный директор ), Джерард Кляйстерли (Председатель наблюдательного совета ) |
| Продукция | Фотолитография системы для полупроводниковой промышленности |
| Доход | € 10,944 млрд. (2018) |
| Чистая прибыль | € 2,592 миллиарда (2018) |
| Итого активы | € 18,196 миллиарда (2017) |
| Общий капитал | € 10,676 миллиарда (2017) |
| Количество сотрудников | >26000 (2020), 123 национальности |
| Веб-сайт | www |
| Сноски / ссылки >12000 патентов (2019) | |
ASML Holding NV- голландская компания и в настоящее время крупнейший в мире поставщик фотолитографических систем для полупроводниковая промышленность. Компания производит машины для производства интегральных схем. Компания является составной частью Euro Stoxx 50 и NASDAQ-100.
Машины для фотолитографии производства ASML используются в производстве компьютерных микросхем. В этих машинах рисунки оптически отображаются на кремниевой пластине, которая покрыта пленкой из светочувствительного материала (фоторезист ). Эта процедура повторяется десятки раз на одной пластине. Затем фоторезист обрабатывается для создания реальных электронных схем на кремнии. Оптическое изображение, с которым работают машины ASML, используется при изготовлении почти всех интегральных схем, и по состоянию на 2010 год на ASML приходилось 67 процентов мировых продаж литографических машин, среди конкурентов - Ultratech, Canon и Nikon.
По состоянию на 2011 год их высокопроизводительная система TWINSCAN NXT: 1950i используется для изготовления деталей размером до 32 нанометров (и прогноз для 22 нм) со скоростью до 200 пластин в час с использованием иммерсионной линзы с водой и лазера на фториде аргона, который излучает свет с длиной волны 193 нм. По состоянию на 2011 год средняя стоимость литографической машины составляет 27 миллионов евро.
ASML производит крайнюю ультрафиолетовую литографию, которая излучает свет в диапазоне длин волн 13,3–13,7 нм.. Высокоэнергетический лазер фокусируется на микроскопических каплях расплавленного олова для создания плазмы, излучающей EUV-свет.
В 2009 году исследовательский центр IMEC в Бельгии произвел первые в мире функциональные ячейки памяти 22 нм CMOS SRAM с помощью прототипа литографической машины EUV.. Серийные (не являющиеся прототипами) аппараты EUV были отгружены в 2011 году.
Помимо литографии на основе иммерсии и EUV-литографии, ASML имеет значительную интеллектуальную собственность портфолио, охватывающее литографию выходных данных.
Головной офис ASML находится в Велдховене, Нидерланды. Это также место для исследований, разработок, производства и сборки. ASML имеет клиентскую базу по всему миру и более шестидесяти пунктов обслуживания в шестнадцати странах. Компания котируется на фондовых биржах AEX и NASDAQ как ASML.
Компания (первоначально называвшаяся ASM Lithography, текущее название ASML - официальное название, а не аббревиатура) была основана в 1984 году как совместное предприятие голландских компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI ) и Philips. В настоящее время это публичная компания, миноритарный пакет акций которой принадлежит Philips. Когда в 1988 году компания стала независимой, было решено, что смена названия нежелательна, и аббревиатура ASML стала официальным названием компании.
В 2000 году ASML приобрела Silicon Valley Group (SVG), США. производитель литографического оборудования, претендующий на поставку сканеров 193 нм для Intel Corp.
ASML подчиняется циклической промышленной динамике. Например, в конце 2008 г. в ASML произошло значительное падение продаж, что привело к сокращению штата сотрудников по всему миру примерно на 1000 человек, в основном контрактников, и подачи заявки на поддержку в голландскую национальную кассу по безработице, чтобы предотвратить еще большие увольнения. Два с половиной года спустя ASML ожидал рекордной выручки.
В июле 2012 года Intel объявила о сделке по инвестированию 4,1 миллиарда долларов в ASML в обмен на 15% владения, чтобы для ускорения перехода с пластин 300 мм на 450 мм и дальнейшего развития EUV литографии. Эта сделка не предусматривает исключительных прав на будущие продукты ASML, и по состоянию на июль 2012 года ASML предлагает еще 10% акций другим компаниям. В рамках своей стратегии EUV ASML объявила о приобретении производителя источников DUV и EUV Cymer в октябре 2012 года.
В ноябре 2013 года ASML приостановила разработку 450-мм литографического оборудования, сославшись на неопределенность сроки спроса со стороны производителей микросхем.
В июне 2016 года ASML объявила о своих планах по приобретению тайваньской компании Hermes Microvision Inc. примерно за 3,1 миллиарда долларов, чтобы добавить технологию для создания более мелких и более совершенных полупроводников.
